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산업부 삼성전자 반도체 공장 작업환경보고서 핵심기술 포함

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산업부 삼성전자 반도체 공장 작업환경보고서 핵심기술 포함

-16~17일 산업기술보호 반도체전문위원회 개최

삼성전자 온양 공장. 사진=삼성전자. 이미지 확대보기
삼성전자 온양 공장. 사진=삼성전자.
[글로벌이코노믹 오소영 기자] 산업통상자원부가 삼성전자의 반도체 공장 작업환경 측정 결과 보고서(이하 작업환경보고서)에 국가 핵심기술이 포함됐다고 판단했다.

산업통상자원부는 16~17일 산업기술보호 반도체전문위원회를 열고 삼성전자 반도체 공장 작업환경보고서의 핵심기술 포함 여부를 검토했다.
앞서 삼성전자는 산업기술보호법 제9조 제6항에 따라 산업기술 정보에 해당하는 작업환경보고서에 국가 핵심기술 포함 여부를 판정해달라고 요청했다.

검토 결과 전문위는 삼성전자가 신청한 반도체 공장의 작업환경보고서 일부 내용이 국가 핵심기술을 포함한 것으로 최종 판정했다.

전문위는 2009~2017년 화성과 기흥, 평택, 온양 사업장의 작업환경보고서에 국가 핵심기술로 지정된 ‘30nm 이하급 디렘(DRAM)과 낸드플레시(NAND Flash), AP의 공정 및 조립기술’이 포함된 것으로 결론을 지었다.

또한 보고서에 포함된 단위작업장소별 화학물질과 측정 순서, 월 취급량 등의 정보로부터 공정과 조립 기술의 유추가 가능하다고 판단했다.


오소영 기자 osy@g-enews.com